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第21回ＡＲＳ奈良まほろばコンファレンス 主催：（社）表面技術協会・金属のアノード酸化皮膜の機能化部会（ＡＲＳ） 協賛：日本化学会、電気化学学会、応用物理学会、軽金属学会、日本表面科学会（依頼中） 日時：平成16年10月21日（木）13時〜22日（金）15時 場所：簡保の宿・奈良（奈良市二条町３−９−１ TEL0742-33-2351） 近鉄「大和西大寺」駅下車徒歩15分 |
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10月21日（木） 14：15 開会の挨拶 代表幹事（近畿大理工） 伊藤征司郎
直流エッチングにより高配向アルミニウムに形成されるトンネルの生成機構の解明 東京理科大理工 小浦延幸，宇井幸一 MOCVDおよび電気泳動ゾルゲルコーティングとアノード酸化を組み合わせた複合酸化物皮膜の形成プロセス 北大院工 高橋英明 In-lens, utra-high resolution BSE imagingによるAlアノード酸化皮膜の観察 慶応義塾大 清水健一、 Carl Zeiss 立花繁明、北大院工 幅崎浩樹 休憩（20分） 特別講演 陽極酸化中の焼け発生理論と高速皮膜生成及び皮膜の物性について 武蔵工大名誉教授 星野重夫 第2日目 10月22日(金） ポスター発表(展示） 16件（２１日から２２日朝に変更） 8:50−9:30 リチウムイオン二次電池およびEDLCのための集電極としてのアルミニウム 山形大工 立花和宏 9:30−10:10 将来型電気二重層キャパシタを目指した材料開発 関西大工 石川正司 10:10−10:40 電気二重層キャパシタの最新技術 日本ケミコン(株)基礎研究センター 玉光賢次 休憩(15分） 10:55−11:25 複合アノード酸化処理したアルミニウムの真空中でのガス放出特性とその制御 工学院大 小野幸子 11:25−11:55 ポーラスアルミナに基づく光機能デバイスの作製 都立大院工 西尾和之 11:55−12:25 アノード酸化皮膜を絶縁体に用いる電気化学微小分析セルの開発 北大院工 坂入正敏、山田雅史、菊地竜也、高橋英明 昼食（45分） 13:10−13:40 アルミニウムの化成処理における成膜プロセスとキャラクタリゼーション 近畿大理工 藤野隆由 13:40−14:20 アルマイト触媒を用いたディーゼル排気ガス処理装置の開発 東京農工大 郭ユ、亀山秀雄、（株）リード工業 工藤泰士 14:20−14:50 アルマイト放電触媒を用いた空気清浄装置の開発 (有）アルマイト触媒研 トラン タンフォン、（株）アルキャット 山本泰宏 東京農工大 亀山秀雄 14:50−14:55 閉会の挨拶 ポスター 微粒子を鋳型としたアノード酸化によるインバースオパール構造の作製 工学院大 阿相英孝，小野幸子 AFMによるアノード酸化ポーラスアルミナの孔発生過程の検討 工学院大 朝比奈健史，阿相英孝，小野幸子 マグネシウムアノード酸化皮膜の構造と耐食性評価 工学院大 鈴木章則，阿相英孝，小野幸子 Alアノード酸化皮膜をテンプレートとしたAgナノワイヤアレイの作製 近畿大理工 安井晃仁、岩崎光伸、多田弘明、伊藤征司郎 ニオブアノード酸化皮膜の成長挙動と皮膜特性に及ぼす酸素添加の影響 北大工 小笠原健，北大院工 幅崎浩樹，金野英隆， 慶応大経済 清水健一，東北大金研 浅見勝彦，永田晋二， キャボットスーパーメタル 高山幸一，小田幸雄 Ti-Nb合金上への高誘電性アモルファスアノード酸化皮膜の形成 北大院工 小野寺恭志，幅崎浩樹，金野英隆， 慶応大経済 清水健一，東北大 金研 永田晋二，キャボットスーパーメタル 高山幸一，小田幸雄 陽極酸化ポーラスアルミナ皮膜を用いたガスプラズマ発光素子 九州三井アルミニウム工業(株) 蓮尾俊治、 石神井中 水木一成、 都立大院理 森崎重喜 Crystallographic Pit Growth During Anodic Etching on (100) Nippon Chemi-con Corp. S. Ono, T. Makino 、 Boundary Technology Inc. R.S. Alwitt 非水溶媒−水混合溶液中でタンタル薄膜上に形成した陽極酸化膜中へのＣ取り込み 三菱化学(株) 水谷文一、榊原利明、石川 誠 電解条件によるニオブアノード酸化皮膜の構造と誘電的性質の変化 北大院工 長原和宏、坂入正敏、高橋英明、キャボットスーパーメタル 高山幸一，小田幸雄 複合陽極酸化によるガラス上への多様化チタニヤナノ構造体の作製と特性 物材研究機構・物質研究所 CHU 松竹・和田健二・井上 悟 NaCl溶液中におけるAlのガルバニック腐食に及ぼすアノード酸化皮膜構造の影響 北大院工 下山由起也、坂入正敏、高橋英明 中性溶液中におけるアルミニウムのカソード分極挙動 −ブリスターおよびピット生成過程のin-situ AFM観察− 北大院工 黒川真也、坂入正敏、高橋英明、東北工大 加藤善大 アノード酸化/レーザー照射/電解重合による電気化学アクチュエータの試作 北大院工 秋山好之、菊地竜也、飯田真豪、上田幹人、坂入正敏、高橋英明 フォトンラプチャー法による55mass %Al - Znめっき層の局部腐食挙動の解析 北大院工 内田義孝、坂入正敏、高橋英明 多孔質アルミニウムおよびアルミナ皮膜をテンプレートとするナノカーボンの液相合成 北大院工 林真知子，佐藤慎也，幅崎浩樹，金野英隆 複合陽極酸化によるガラス上への多様化チタニアナノ構造体の作製と特性 物材研究機構・物質研究所 CHU松竹、和田健二、井上 悟 参加費 ＡＲＳ会員（大学、国公立研究所）２３，０００円 ＡＲＳ会員（民間企業） ３８，０００円 協賛学協会会員（大学、国公立研）２５，０００円 協賛学協会会員(民間企業) ４０，０００円 その他・一般 ４５，０００円 学生 １５，０００円 問合せ・申込み先 はがき、FAX又は本サイトにて氏名、所属、連絡先（住所、tel、fax）、申込み資格を明記のうえお申込み下さい。 （事務局）東京都立大学大学院工学研究科応用化学専攻 益田秀樹 TEL ０４２６−７７−１１１１ 内線４９３１、FAX ０４２６−７７−２８４１ 申込締切：１０月１２日（火） 参加費払込方法 申込みがあり次第、詳細な案内と郵便振込用紙をお送りいたします。 |