ARSからのお知らせ
第35回コンファレンスのお知らせ(速報版)   2018年10月25日(木)〜26日(金)開催
     論文募集中!!!
     参加申込受付中!!! 申込締切 6/1(金)
国際会議 AST2019 開催のお知らせ   2019年6月2日(日)〜5日(水)開催
    ホームページが開設されました!!!
 

○第35回ARSコンファレンスのお知らせ(速報版)

 第35回コンファレンスを下記のとおり静岡県浜松市で開催する予定です。多数の皆様にご参加いただければ幸いです。申込方法などの詳細は後日掲載いたします。

第35回ARSコンファレンス開催予定
会期:2018年10月25日(木)〜26日(金)
会場ホテルリステル浜名湖、静岡県浜松市北区三ヶ日町下尾奈2251

 

 

○表面技術協会誌 特集号
「金属・半導体のアノード酸化研究の最前線」論文募集!

 表面技術協会の会誌「表面技術」では、金属・半導体のアノード酸化研究の最前線に関する特集号を29年ぶりに企画し、研究論文・技術論文・速報論文・ノートを幅広く募集しております。ぜひこの機会にアノード酸化技術およびその周辺関連技術に係る皆様の研究成果・技術的成果を投稿下さいますようお願い申し上げます。

「表面技術」特集号
ー金属・半導体のアノード酸化研究の最前線ー
 
【内容】
1)金属・半導体のアノード酸化皮膜の形成およびその応用に関する学術的な成果と技術に関する研究
2)金属・半導体のアノード溶解を伴うエッチングに関する学術的な成果と技術に関する研究
3)金属・半導体のアノード酸化の利用に関する周辺技術の研究および技術的成果
※上記以外でも少しでもアノード酸化に係る内容であれば、ご投稿を歓迎いたします。
 
【投稿締切】
研究論文・技術論文:平成30年6月29日(金)
ノート・速報論文:平成30年8月31日(金)
 
【発行】
平成30年12月1日予定(表面技術 第69巻12号)
 
投稿方法などの詳細につきましては、表面技術協会ホームページをご参考下さい。
皆様のご投稿を心よりお待ち申し上げております。
 

 

○第99回例会(首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス)のご案内

 恒例となりましたチュートリアル講演例会を開催いたします。金属のアノード酸化技術は、表面処理、電解コンデンサ、ナノデバイスなど、様々な分野で広範に用いられ、重要性を増しつつあります。本会では、例会、コンファレンスを通じ、アノード酸化に関する最新の研究成果のディスカッションを行っておりますが、一方、新たにアノード酸化技術を利用される研究者や技術者も少なくありません。そこで、アノード酸化の初心者、あるいはこれから関連研究をはじめようとする研究者、技術者、学生を対象として「アノード酸化のサイエンスの基礎」に主眼を置いたチュートリアル例会を企画いたしました。今回は4名の講師に、アルミニウム、マグネシウム、チタンのアノード酸化の基礎、アルミニウムアノード酸化皮膜の着色の基礎について、わかりやすく解説していただきます。これからアノード酸化を利用されようとする方およびアノード酸化を基礎から学びたいという方の多数の参加をお待ちしております。

第99回ARS例会
ー平成30年度チュートリアル:アノード酸化の基礎ー
【会期】2018年(平成30年)6月15日(金)13:00〜17:30
【会場】首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス ( 〒101-0021 東京都千代田区外神田1-18-13 秋葉原ダイビル12階)
【主催】ARS
【協賛】日本化学会、電気化学会、軽金属学会、日本表面科学会、日本金属学会、腐食防食学会(予定)
【参加費】ARS会員および学生:無料、一般:3,000円、ミキサー:3,000円、当日会場でお支払い下さい。
【申込締切】2018年6月1日(金)
【定員】60名
【申込方法】 1)氏名,2)所属,3)連絡先(住所,電話番号,e-mail),4)会員種別(ARS会員/一般/学生),5)ミキサー参加有無を明記の上,下記申込先へe-mailでお申込みください。60名の定員に達し次第申し込みを締め切ります。
【申込先】ARS部会事務局:arsアットマークsfj.or.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)
 
【プログラム】
13:00-13:05 開会挨拶
13:05-14:05 アルミニウムアノード酸化皮膜の基礎  北海道大学  菊地 竜也
14:05-15:05 アルミニウムアノード酸化皮膜の着色の基礎 奥野製薬工業 原 健二
15:05-15:25 休憩
15:25-16:25 マグネシウムのアノード酸化の基礎  工学院大学   小野 幸子
16:25-17:25 チタンのアノード酸化の基礎 首都大学東京   近藤 敏彰
17:25-17:30 閉会挨拶
17:45-19:00 ミキサー

 

○第98回例会(東京ビッグサイト)開催報告

 2018年2月16日(金)、東京ビックサイトにおいて第98回例会が開催されました。SURTEC2018を会場として開催され、アノード酸化に関する新規な表面処理プロセスや表面分析手法についての発表が行われました。

第98回ARS例会
【日時】2018年2月16日(金)10:30〜13:00
【会場】東京ビッグサイト(東京国際展示場) 東6ホール( 〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1)
 
【依頼講演】
微小電気化学セルを用いる局部陽極酸化  北海道大学  坂入 正敏
分子吸着による固体表面と細孔の評価 ー陽極酸化ポーラスアルミナへの適用ー  首都大学東京  武井 孝
ナノレベルまで解明できる最新の装置を利用した陽極酸化皮膜の解析事例 日本電子(株)、(株)JEOL RESONANCE  堤 建一、矢澤 宏次

参加者:82名

 
 
 
 
 
 
 

○第34回ARS松島コンファレンス開催される

 2017年10月30日(月)〜31日(日)、宮城県松島町のパレス松洲(まつしま)において第34回ARS松島コンファレンスが開催され、57名の参加者がありました。2日間のコンファレンスで12件の依頼講演および19件のポスター発表が行われました。
 アルミニウムやチタン上に生成するアノード酸化皮膜の基礎研究から、自動車、半導体、医療、二次電池などへの応用にわたる幅広い研究発表がありました。また、アノード酸化表面処理に関連するホットな研究として、アルミニウム/マグネシウムの電析や色素増感型太陽電池に関する興味深い講演発表と活発な質疑応答が行われました。
 コンファレンスの閉会式において、優秀なポスター発表を行った3名の皆さんに「ポスター賞」が授与されました。おめでとうございます!
 
 

 

 

ポスター賞受賞者
國本 海斗 君(北大院工):シュウ酸・エチドロン酸アノード酸化皮膜のフォトルミネッセンス
坂本 大河 君(首都大都市環境):アルミナナノホールアレイにもとづいたZnOナノロッドアレイの形成と有機薄膜太陽電池への応用
松崎 健太 君(京大院工):形状制御したPt粒子触媒によるSiへのヘリカルポア形成

 

松島コンファレンスの写真はこちら

【ARS全般に関する問い合わせ先】
ARS事務局 e-mail:arsアットマークsfj.or.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)
【ホームページに関する問い合わせ先】
菊地竜也 e-mail:kikuアットマークeng.hokudai.ac.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)