参加申込受付中!!!  申込締切8/10(金)
第35回浜名湖コンファレンスのお知らせ(速報版)   2018年10月25日(木)〜26日(金)開催
     論文募集中!!!
国際会議 AST2019 開催のお知らせ   2019年6月2日(日)〜5日(水)開催
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 第100回例会(首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス)のご案内 

  代表的半導体であるシリコンのアノード酸化は、多孔質シリコンの室温可視発光の発見で一躍注目を浴びたのち、光学フィルタや微細構造形成のテンプレート、ドラッグデリバリー用の担体などに応用範囲を拡大しながら精力的に研究が進められてきました。近年では,金属を触媒とした半導体のエッチングも飛躍的な研究の進歩がみられ、新たな技術として確立されつつあります。また、化合物半導体のアノード酸化にも新たな展開が見られます。このような背景のもと、本部会における初の試みとして半導体のアノード酸化をテーマに例会を企画いたしました。今回は4名の講師から、化合物半導体のアノードエッチング、半導体の金属触媒エッチングと研磨、シリコン陽極酸化における応力制御と微細構造形成、太陽電池用シリコン加工についてご紹介いただき、半導体のアノード酸化とその応用の最先端へみなさまを誘います。アルミニウムやチタンなどの金属の場合とは趣を異にする、新たな視点でアノード酸化を見直す絶好の機会となるはずです。多数のご参加をお待ちしております。
  合わせて、ミキサーは講師や参加者との情報交換・交流の場です。どうぞ、ご参加ください。

第100回ARS例会
ー最新技術が拓くアノード酸化による半導体表面微細加工ー
【会期】2018年(平成30年)8月28日(火)13:15〜17:30
【会場】首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス ( 〒101-0021 東京都千代田区外神田1-18-13 秋葉原ダイビル12階)
【主催】ARS
【協賛】日本化学会,電気化学会,化学工学会,日本表面真空学会,応用物理学会,精密工学会,エレクトロニクス実装学会,日本材料学会,日本セラミックス協会,日本トライボロジー学会など(予定)
【参加費】ARS会員および学生:無料、一般:3,000円、ミキサー:3,000円、当日会場でお支払い下さい。
【申込期間】8月10日(金)まで
【申込方法】下記「参加申込みはこちら」をクリックしてお申し込み下さい。

【プログラム】
13:15-13:20 開会挨拶
13:20-13:35 趣旨説明 京都大学 深見 一弘
13:35-14:25 アノードエッチングを用いた化合物半導体の微細加工  工学院大学 阿相 英孝
14:30-15:20 ウェットエッチングによる半導体表面構造の極限制御  〜不動態化から触媒アシストエッチングまで〜 大阪大学 有馬 健太
15:20-15:40 休憩
15:40-16:30 陽極酸化法を利用したシリコンウエハ表面のマイクロ曲げ加工技術  神戸大学 青木 画奈
16:35-17:25 ポーラスシリコンのナノ構造を利用した低コスト,高効率太陽電池への アプローチ:低コスト剥離およびタンデムトップセルを目指して 東京工業大学 伊原 学
17:25-17:30 閉会挨拶
17:45-19:00 ミキサー

 

 協賛講演会のご案内(東洋テクニカ本社セミナー室) 

 電気化学会関東支部・第47回先端科学セミナーを協賛いたします。詳しくは下記のPDFファイルをご覧下さい。

電気化学会関東支部・第47回先端科学セミナー
ーアノード酸化プロセスにもとづく微細構造形成と機能化ー
 
日時:2018年7月26日(木)10:00〜17:20
会場:東陽テクニカ本社8階第1セミナー室(東京都中央区八重洲1丁目)
 
 第47回先端科学セミナーチラシ.pdf

 

 第35回ARS浜名湖コンファレンスのお知らせ(速報版) 

 第35回浜名湖コンファレンスを下記のとおり静岡県浜松市で開催する予定です。多数の皆様にご参加いただければ幸いです。申込方法などの詳細は後日掲載いたします。

第35回ARS浜名湖コンファレンス開催予定
会期:2018年10月25日(木)〜26日(金)
会場ホテルリステル浜名湖、静岡県浜松市北区三ヶ日町下尾奈2251

 

 

 表面技術協会誌 特集号 
 「金属・半導体のアノード酸化研究の最前線」論文募集! 

 表面技術協会の会誌「表面技術」では、金属・半導体のアノード酸化研究の最前線に関する特集号を29年ぶりに企画し、研究論文・技術論文・速報論文・ノートを幅広く募集しております。ぜひこの機会にアノード酸化技術およびその周辺関連技術に係る皆様の研究成果・技術的成果を投稿下さいますようお願い申し上げます。

「表面技術」特集号
ー金属・半導体のアノード酸化研究の最前線ー
 
【内容】
1)金属・半導体のアノード酸化皮膜の形成およびその応用に関する学術的な成果と技術に関する研究
2)金属・半導体のアノード溶解を伴うエッチングに関する学術的な成果と技術に関する研究
3)金属・半導体のアノード酸化の利用に関する周辺技術の研究および技術的成果
※上記以外でも少しでもアノード酸化に係る内容であれば、ご投稿を歓迎いたします。
 
【投稿締切】
研究論文・技術論文:平成30年6月29日(金)
ノート・速報論文:平成30年8月31日(金)
 
【発行】
平成30年12月1日予定(表面技術 第69巻12号)
 
投稿方法などの詳細につきましては、表面技術協会ホームページをご参考下さい。
皆様のご投稿を心よりお待ち申し上げております。
 

 

 第99回例会(首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス)開催報告 

 2018年6月15日(金)、首都大学東京秋葉原サテライトキャンパスにおいて、第99回例会が開催されました。年1回恒例のチュートリアルとして、アノード酸化の基礎に関する4件の講演が行われ、参加者は84名と大変盛会でした。

第99回ARS例会
ー平成30年度チュートリアル:アノード酸化の基礎ー
【会期】2018年(平成30年)6月15日(金)13:00〜17:30
【会場】首都大学東京 秋葉原サテライトキャンパス ( 〒101-0021 東京都千代田区外神田1-18-13 秋葉原ダイビル12階)
 
【依頼講演】
アルミニウムアノード酸化皮膜の基礎  北海道大学  菊地 竜也
アルミニウムアノード酸化皮膜の着色の基礎 奥野製薬工業 原 健二
マグネシウムのアノード酸化の基礎  工学院大学   小野 幸子
チタンのアノード酸化の基礎 首都大学東京   近藤 敏彰
 
参加者:84名

 
 
 
 
 
 
 

 第98回例会(東京ビッグサイト)開催報告 

 2018年2月16日(金)、東京ビックサイトにおいて第98回例会が開催されました。SURTEC2018を会場として開催され、アノード酸化に関する新規な表面処理プロセスや表面分析手法についての発表が行われました。

第98回ARS例会
【日時】2018年2月16日(金)10:30〜13:00
【会場】東京ビッグサイト(東京国際展示場) 東6ホール( 〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1)
 
【依頼講演】
微小電気化学セルを用いる局部陽極酸化  北海道大学  坂入 正敏
分子吸着による固体表面と細孔の評価 ー陽極酸化ポーラスアルミナへの適用ー  首都大学東京  武井 孝
ナノレベルまで解明できる最新の装置を利用した陽極酸化皮膜の解析事例 日本電子(株)、(株)JEOL RESONANCE  堤 建一、矢澤 宏次
 
参加者:82名

 
 
 
 
 
 
 

 第34回ARS松島コンファレンス開催される 

 2017年10月30日(月)〜31日(日)、宮城県松島町のパレス松洲(まつしま)において第34回ARS松島コンファレンスが開催され、57名の参加者がありました。2日間のコンファレンスで12件の依頼講演および19件のポスター発表が行われました。
 アルミニウムやチタン上に生成するアノード酸化皮膜の基礎研究から、自動車、半導体、医療、二次電池などへの応用にわたる幅広い研究発表がありました。また、アノード酸化表面処理に関連するホットな研究として、アルミニウム/マグネシウムの電析や色素増感型太陽電池に関する興味深い講演発表と活発な質疑応答が行われました。
 コンファレンスの閉会式において、優秀なポスター発表を行った3名の皆さんに「ポスター賞」が授与されました。おめでとうございます!
 
 

 

 

ポスター賞受賞者
國本 海斗 君(北大院工):シュウ酸・エチドロン酸アノード酸化皮膜のフォトルミネッセンス
坂本 大河 君(首都大都市環境):アルミナナノホールアレイにもとづいたZnOナノロッドアレイの形成と有機薄膜太陽電池への応用
松崎 健太 君(京大院工):形状制御したPt粒子触媒によるSiへのヘリカルポア形成

 

松島コンファレンスの写真はこちら

【ARS全般に関する問い合わせ先】
ARS事務局 e-mail:arsアットマークsfj.or.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)
【ホームページに関する問い合わせ先】
菊地竜也 e-mail:kikuアットマークeng.hokudai.ac.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)