第38回ARS姫路コンファレンス開催のお知らせ
「第３８回アノード酸化皮膜の機能化部会（ARS）姫路コンファレンス」を下記のように開催いたします。感染対策を考慮したうえでの４年ぶりの通常開催となります。アルミニウムを中心に金属・半導体のアノード酸化皮膜の基礎と応用について、この４年間に名誉幹事に就任された先生方の特別講演と企業および大学からの最新の話題で構成いたしました。また、現在ポスター発表を募集しております。優れたポスター発表には選考により優秀ポスター賞を授与いたします。皆様奮ってご応募・ご参加くださいますようお願いいたします。
第38回ARS姫路コンファレンス
【会期】2023年11月6日（月）13：00〜11月7日（火）12：00
【会場】じばさんびる（（公財）姫路・西はりま地場産業センター） 〒670-0962姫路市南駅前町123番
【主催】（一社）表面技術協会・アノード酸化皮膜の機能化部会（ARS部会）
【参加費】ARS会員（大学所属等）26,000円、ARS会員（民間企業所属）41,000円、ARSシニア会員（表協シニア優遇制度資格と同様）20,000円、表面技術協会会員（大学所属等）28,000円、表面技術協会会員（民間企業所属）43,000円、一般 48,000円、学生17,000円 ※なお、ARSに法人会員はございません。個人会員のみとなります。
【ポスター発表申込締切】10月2日（月）
【参加申込締切】10月10日（火）
【ポスター発表申込】1) 氏名，2) 所属，3) 連絡先（e-mail, 電話番号），4) 会員種別（ARS部会会員，学生，表協会員，一般），5) 発表題目，6) 優秀ポスター賞（32歳以下対象）申込の有無を明記の上、事務局にe-mailでお申し込みください。
【参加申込】1) 氏名，2) 所属，3) 連絡先（e-mail, 電話番号），4)「参加費区分」を明記の上、事務局にe-mailでお申し込みください。
○コロナ対策のためシングルルーム利用とします。宿泊は会場から徒歩数分の「ホテル日航姫路（学生以外）姫路市南駅前町100」と「JRクレメントイン姫路（学生）姫路市南駅前町33-1」です。
○宿泊予約などのため、締切に関わらず早めの申込にご協力ください。
【問合せ・申込先】ARS部会事務局：ars_office（アットマーク）eng.u-hyogo.ac.jp（メール送信の際は、アットマークを@に変換してお送りください）、〒671-2280兵庫県姫路市書写2167、兵庫県立大学姫路工学キャンパスC棟、Tel & Fax 079-267-4911
プログラム
（一部変更になる場合もあります）
1日目：11月6日（月）
13:00 開会
13:05 １．特別講演 アノード酸化 ―その不思議を追いかけて― （工学院大学）小野 幸子
14:10 ２．特別講演 アノード酸化再訪―出会いに感謝 （慶応義塾大学）清水 健一
休憩 20分
15:30 ３．特別講演 大学教員から高専校長そして社外取締役へ （北海道大学）高橋 英明
16:40 ポスターセッション
懇親会（ホテル日航姫路）
ナイトコミュニティー（ホテル日航姫路）
2日目：11月7日（火）
8:45 ４．特別講演 アルミニウム材料の電解着色技術の進歩と今後 （元日本軽金属（株））海老原 健
9:50 ５．二次電解着色を応用した土木製品向け表面処理 （日本軽金属（株））武田 千広
休憩 10分
10:30 ６．塩基性電解質を用いたアルミニウムのアノード酸化 （北海道大学）岩井 愛、菊地 竜也
11:05 ７．酸化グラフェンを触媒として用いたシリコンの化学エッチング （京都大学）宇都宮 徹
11:40 ８．多機能電界放射型透過電子顕微鏡による薄膜・表面のナノ構造解析 （兵庫県立大学）福室 直樹
12:00 表彰・閉会
第112回チュートリアル例会開催報告
9月25日に，工学院大学新宿キャンパスにおいて第112回例会（チュートリアル）が対面形式で開催されました。本例会では，菊地竜也幹事（北海道大学） によるAlのアノード酸化の基礎，土谷博昭幹事（大阪大学）によるTiのアノード酸化の基礎に加えて，大澤伸夫幹事（株式会社UACJ）から電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔のアノード酸化挙動と圧延表面解析および日本電子株式会社の島政英様からアノード酸化皮膜を解析するための機器分析の基礎と応用についてご講演していただきました。いずれの講演も分かりやすく解説いただけたことから，多くの質疑応答が交わされ，時間が延長するほど非常に活発な会合となりました。
第112回ARS例会
ー2023年度チュートリアル：アノード酸化の基礎ー
【日時】2023年9月25日（月）13：00〜18：00
【会場】工学院大学新宿キャンパス 28階 第一会議室（〒163-8677 東京都新宿区西新宿1-24-2）
【依頼講演】
○アルミニウムのアノード酸化の基礎１ （北海道大学）菊地 竜也
○アルミニウムのアノード酸化の基礎２ （北海道大学）菊地 竜也
○チタンのアノード酸化の基礎（仮題） （大阪大学）土谷 博昭
○電解コンデンサ用高純度アルミニウム箔のアノード酸化挙動と圧延表面解析 （UACJ）大澤 伸夫
○アノード酸化皮膜を解析するための機器分析と応用（仮題） （日本電子）島 政英
参加者：オンサイト44名，会員・学生限定オンライン38名，合計82名
第111回例会（東京）開催報告
6月13日に，南部労政会館において第111回例会が前回に引き続き対面形式で開催されました。本例会では，実用金属として最も軽量かつ比強度の高いマグネシウム合金に着目し，その材料特性と業界動向およびアノード酸化の基礎から環境負荷を低減できる工業製品とするためのマルチマテリアル化への応用や耐食皮膜に関する最新の研究まで幅広い話題について，４件のご講演を頂きました。企業の方の参加も多く，有意義な例会となりました。
第111回ARS例会
ーマグネシウム合金のアノード酸化ー
【日時】2023年6月13日（火）13：00〜16：40
【会場】南部労政会館 第5会議室（〒141-0032東京都品川区大崎1-11-1ゲートシティ大崎ウェストタワー2階）
【依頼講演】
○材料としてのマグネシウム合金とその業界動向 （(一社)日本マグネシウム協会）駒井 浩
○マグネシウム合金のアノード酸化の基礎と最近の展開 （工学院大学）阿相英孝
○マグネシウム合金へのアノード酸化処理とマルチマテリアルへの適用 （広島工業大学）日野 実
○水酸化皮膜形成によるマグネシウム合金の耐食性向上技術の開発 （山梨県産業技術センター）佐野正明、鈴木大介
参加者：オンサイト25名、会員限定オンライン19名、計44名
第110回例会（東京ビッグサイト）開催報告
2020年1月以来、3年ぶりにSURTECH展示会（東京ビッグサイト）にて部会講演会として、第110回例会が対面で開催されました。「陽極酸化関連の最近の技術から」と題して、チタンおよびステンレスの電解研磨、アルマイトの耐摩耗試験について3件の講演がありました。コロナ禍が続く中での対面開催に不安がありましたが多く方々に聴講いただき、講師と質問者の直接の対話もあって対面開催の重要性が改めて認識されました。今回は会員限定でオンライン配信を試行して10名の参加があり、質問者の声が聞き取りにくいなどの不手際はありましたが、新たな会員サービスとして今後の例会でも継続発展させてまいります。
第110回ARS例会
ーSURTECH2023 表面技術要素展ー
【日時】2023年2月3日（金）13：30〜15：30
【会場】東京ビッグサイト
【テーマ】陽極酸化関連の最近の技術から ーチタン・ステンレスの電解研磨とアルマイトの耐摩耗試験ー
【依頼講演】
○工業界でのチタンの電解研磨の技術 （(株)中野科学） 中野 信男
○払拭法で電解研磨したステンレスの表面特性 （マルイ鍍金工業(株)） 藤野 毅
○往復運動平面摩耗試験装置を用いた円柱形状試験片における硬質アルマイトの摩耗特性評価 （山梨県産業技術センター） 塩澤佑一朗
参加者：オンサイト60名、会員限定オンライン10名、合計70名
第109回例会（WEB）開催報告
9月16日に第109回例会としてチュートリアルがZoomを利用したweb会議方式で開催されました。菊地竜也准教授(北海道大学)，阿相英孝教授(工学院大学)によるAlのアノード酸化の基礎，Mgのアノード酸化の基礎の講演に加えて，近年取り扱うことの多くなってきました半導体材料として，Siのアノード酸化の基礎についても深見一弘准教授(京都大学)に講演いただきました。いずれの講演も分かりやすく解説いただけたこと，今回は全ての講演終了後に総合討論の時間を設けたことで多数の質疑応答が交わされ，非常に活発な会合となりました。
○第１０９回例会 ―２０２２年度チュートリアル：
アノード酸化の基礎―
【日時】令和４年９月１６日（金）１３：００～１７：２０
【会場】オンライン開催（ｚｏｏｍ使用）
【依頼講演】
○アルミニウムのアノード酸化の基礎１ （北海道大学） 菊地竜也
○アルミニウムのアノード酸化の基礎２ （北海道大学） 菊地竜也
○マグネシウムのアノード酸化の基礎 （工学院大学） 阿相英孝
○シリコンのアノード酸化の基礎 （京都大学） 深見一弘
参加者：68名
【ARS全般に関する問い合わせ先】
ARS事務局 e-mail：arsアットマークsfj.or.jp（アットマークを半角英数字@に変換して下さい）
【ホームページに関する問い合わせ先】
菊地竜也 e-mail：kikuアットマークeng.hokudai.ac.jp（アットマークを半角英数字@に変換して下さい）
