国際会議 AST2025 開催のお知らせ 

 ARSが主催する国際会議 4th International Symposium on Anodizing Science and Technology (AST2025)が、2025年6月1日〜4日にホテル日航成田(千葉県成田市)で開催されることになりました。講演申込およびアブストラクト提出締切は2025年1月10日(金)を予定しています。その他、詳細な情報は、下記のAST2025ホームページで随時公開いたします。ぜひ講演発表および参加をご検討いただければ幸いです。
 

 

 

 

 第116回例会(東京ビッグサイト)のご案内 

 下記のとおりSURTECH2025表面技術要素展において第116回例会を開催いたします。皆様のご参加をお待ち申し上げております。

第116回ARS例会
SURTECH2025 表面技術要素展
 
【日時】2025年1月31日(金)13:30〜15:30
【会場】東京ビッグサイト(東京国際展示場) 東3ホール 主催者事務室 ※予定( 〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1)
【主催】ARS
【申込】不要です。
【参加費】無料です。
なお、SURTECH2025展示会は事前来場登録制となっております。詳しくはSURTECH2025ウェブサイトをご覧下さい。
 
【依頼講演】
13:35~14:05 陽極酸化ポーラスアルミナの抗菌活性 三菱ケミカル(株) 村田 貴朗
14:15~14:45 Alの陽極酸化に基づく濡れ性傾斜表面の作製と液滴輸送  東京都立大学 柳下 崇
14:55~15:25 アルミニウムを使用したナノポアメンブレンの製造技術 I&Tニューマテリアルズ(株) 蓮尾 俊治 
 

 

 表面技術協会 第151回講演大会 シンポジウム開催のお知らせ(東京都市大学 世田谷キャンパス) 

 2025年3月12日(水)〜13日(木)に開催される表面技術協会 第151回講演大会において、下記のシンポジウムを企画いたしました。皆様の発表申込をお待ち申し上げております。

表面技術協会 第151回講演大会 シンポジウム
「アノード酸化技術の進展」
 
【会期】2024年3月12日(水)〜13日(木)
【会場】東京都市大学 世田谷キャンパス東京都世田谷区玉堤1-28-1
 
シンポジウム企画要旨:
 アノード酸化技術は100年を超える歴史があり、アルミニウムやマグネシウムの表面処理による耐食性,耐摩耗性の改善から接合,着色用途まで幅広く工業的に利用されている。さらに,酸化チタンナノチューブ皮膜,鉄・ステンレス鋼の多孔質アノード酸化皮膜,シリコンや化合物半導体のエッチングなど新たな展開も活発化しており,研究の範囲は現在も拡大を続けている。本シンポジウムでは,アノード酸化に関する最新の技術について,その機能的応用を含めて,依頼講演によりわかりやすく解説いただくとともに,最新の研究成果および技術について幅広く一般講演を募集して討論する。
参加申込方法などの詳細は第151回講演大会ホームページをご覧下さい。

 

 第39回ARS蒲郡コンファレンス開催報告 

 11月14日(木)~11月15日(金)に,西浦温泉 ホテル東海園において第39回ARS蒲郡コンファレンスが開催されました。今回は持続可能性・環境配慮に主眼を置き,関連したアノード酸化技術を中心に7件の依頼講演が行われました.また,学生を中心とした計19件のポスター発表も行われ,3名の学生が優秀発表賞と黒田孝一記念賞を受賞しました(下記参照)。
 今年は,2019年の富山コンファレンス以来5年ぶりに講演会と宿泊を同じ施設とする合宿形式で開催し,ナイトコミュニティーも含めたARSらしさを存分に活かした,参加者間での深い議論のできたコンファレンスになったと思っています。

(西尾和之代表幹事)

 

優秀発表賞・黒田孝一記念賞
豊嶋 彩香(東京都立大学)ステンレスの陽極酸化おける自己組織化条件の探索
王 鵬(名古屋工業大学硝酸系電解液中のチタンアノード酸化皮膜の作製と特性に対する有機添加剤の影響
大原 翔(工学院大学)プロパノール混合電解液中でのアルミニウムのバイポーラアノード酸化

 
 
第39回ARS蒲郡コンファレンス


【会期】2024年11月14日(木)13:00〜11月15日(金)12:00
【会場】西浦温泉 ホテル東海園 〒443-0105 愛知県蒲郡市西浦町大山 17-1
 
【依頼講演】
・サステナブル社会への表面改質技術の貢献 (日本パーカライジング(株))中山 隆臣
・環境課題に取り組む陽極酸化~~~環境課題にて現在進行形の中小企業~~~ ((株)中野科学)中野 信男
・イオン液体を用いたアルミニウムスクラップのハイアップグレードリサイクル ((株)UACJ)布村 順司
・Si 粉末廃棄物を利用した貴金属の回収技術 ―チオ硫酸アンモニウム系浸出液からの金回収― (兵庫県立大)八重 真治、松本 歩
・アルミニウム製水滴発電機の創製 ―雨水の接触帯電を利用した発電デバイス― (北海道大学)菊地 竜也
・ハイブリッドアノード酸化皮膜に基づく高性能電池材料と高強度材料 (名古屋工業大学)呉 松竹
・アノード酸化によるポーラス酸化ガリウムの形成と半導体特性 (愛知工科大学、日本工業大学)近藤 敏彰、荒川 俊也
 
【ポスター発表】
P-1 リン酸、シュウ酸、硫酸皮膜での均一電解着色とバリヤー層厚さとの関係 (目黒十中) 水木一成
P-2 ポーラス型アノード酸化皮膜への金属薄膜形成による干渉色発現
  (UACJ) 中島大希、本多 理、京良 彦
P-3 水熱処理によるアノード酸化FeNi系合金皮膜の改質とOER高活性化
 (北海道大学) 江口知臣、北野 翔、岩井 愛、伏見公志、幅﨑浩樹
P-4 ステンレスの陽極酸化おける自己組織化条件の探索 (都立大院都市環境) 豊嶋彩香、柳下 崇
P-5 ポーラスアルミナを用いた鋳型プロセスによる大面積窪みパターン形成と陽極酸化による細孔開始点制御 (都立大院都市環境) 梅木皓太、柳下 崇
P-6 テクスチャリングプロセスを用いた大周期理想配列ポーラスアルミナの形成 (都立大都市環境) 王 博満、柳下 崇
P-7 陽極酸化ポーラスアルミナにおける表面構造を保持した封孔処理方法の開発 (都立大都市環境) 小橋響一、柳下 崇
P-8 フレームワークを有するアルミナメンブレンの作製手法に関する検討 (都立大都市環境) 濱田愛夏、柳下 崇
P-9 高濃度硫酸浴を用いたマルチステップ陽極酸化による大面積アルミナマスクの形成と機能化 (都立大都市環境) 黒岩万祐乃、柳下 崇
P-10 白金微粒子を用いた高ドープp型シリコンの金属援用エッチング ―フッ化水素酸濃度による多孔質構造の変化 (兵庫県立大) 田中琉功、橋口達希、仲山拓真、松本 歩、八重真治
P-11 シリコンの金属援用エッチングにおける全面腐食 ―エッチング中の腐食電位と分極特性  (兵庫県立大) 橋口達希、松本 歩、八重真治
P-12 硝酸系電解液中のチタンアノード酸化皮膜の作製と特性に対する有機添加剤の影響 (名工大院工) 王 鵬、林 爾力、三輪颯也、松平航弥、板津 駿、呉 松竹
P-13 ハイブリッドアノード酸化によるマグネシウム合金上へのMg-Si-O-(W/Ni/Ca)系複合酸化膜の創製と耐食性向上 (名工大院工) 林 爾力、劉 珈成、宮城和弥、奥村耕平、呉 松竹
P-14 ハイブリッド電解法によるアルミニウム合金上へのAl-W-Ni-P-O複合酸化膜の作製と特性に対するGraphene添加の影響 (名工大院工) 増田哲志、三輪颯也、劉 珈成、林 爾力、王 鵬、奥村耕平、呉 松竹
P-15 バリヤー型アルミナ皮膜の生成挙動に及ぼす浴温ならびにグリセリン誘導体添加の影響 (工学院大先進工、坂本薬品工業)石渡翔、萩原健太、阿相英孝、和田純一、保田亮二
P-16 多段階アノード酸化と選択溶解を用いたアルミナナノドットの作製 (工学院大先進工) 倉田駿介、萩原健太、阿相英孝
P-17 プロパノール混合電解液中でのアルミニウムのバイポーラアノード酸化 (工学院大先進工) 大原 翔、萩原健太、阿相英孝
P-18 アルミニウムのバイポーラアノード酸化における実効電圧と電解液の導電率の関係 (工学院大先進工) 西 準、萩原健太、阿相英孝
P-19 硫酸マグネシウムを添加したリン酸ナトリウム電解液中でのチタンのプラズマ電解酸化 (工学院大先進工) 佐藤達彦、萩原健太、阿相英孝
 
参加者:55名
 

 

 第115回例会(東京新宿)開催報告 

 9月24日に工学院大学新宿キャンパスにおいて第115回例会(チュートリアル)が開催されました。本例会では,菊地竜也教授(北海道大学) によるAlのアノード酸化の基礎1,2,阿相英孝教授(工学院大学)によるMgのアノード酸化の基礎に加えて,奥野製薬工業株式会社の原健二様からアルミニウムアノード酸化皮膜の着色の基礎についてご講演いただきました。いずれの講演も分かりやすく解説いただけたことから,メカニズムに関する質疑応答もあり,有意義な会合となりました。

(田口喜弘幹事)
 

 

第115回ARS例会
2024年度チュートリアル:アノード酸化の基礎
 
【日時】2024年9月24日(火)13:00〜17:00
【会場】工学院大学新宿キャンパス 28階 第1会議室(学生・ARS会員のみオンライン参加可能)(〒163-8677 東京都新宿区西新宿1丁目24-2)
 
【依頼講演】
アルミニウムのアノード酸化の基礎1 (北海道大学)菊地 竜也
・アルミニウムのアノード酸化の基礎2 (北海道大学)菊地 竜也
・マグネシウムのアノード酸化の基礎 (工学院大学)阿相 英孝
・アルミニウムアノード酸化皮膜の着色の基礎 (奥野製薬工業)原 健二
 
参加者:オンサイト18名、会員限定オンライン30名、合計48名

 

 訃報 和田健二 名誉幹事 

 ARS名誉幹事の和田健二氏が、2024年の4月25日に83歳でご逝去されました。
 和田先生は科学技術庁無機材質研究所主任研究官、後に独立行政法人物質・材料研究機構物質研究所の主任研究員を務められ、早くからアルマイト処理の微細構造解明および電解着色技術の開発と実用化を推進し、産学界に広く貢献されました。定年退職後にも、陽極酸化法の活用によるガラス基板上への機能性ナノ構造体の創製や、交流アノード酸化・交流電析による軽量高強度材料の作製などに関して若い研究者のご指導と共同研究を熱心に行われ、金属の陽極酸化技術、そしてARS部会の発展にご尽力くださいました。
 ここに和田健二先生のご経歴を紹介し、心よりご冥福をお祈り申し上げます。
 
学歴 : 日本大学工学部
学位:工学博士
経歴:
1970 - :理研軽金属工業株式会社、研究課長
1975 - :科学技術庁 無機材質研究所 研究員
1980 -2001 : 科学技術庁無機材質研究所 主任研究官
2001 - 2014:物質・材料研究機構(NIMS) 物質研究所 主任研究員 (機能探索領域 ガラスグループ)
受賞:
科学技術庁長官表彰(1995年5月19日)セラミックス膜の複合化に関する研究において、「超微細構造を高度に制御することにより密着性に優れ超耐化学性と新たな機能を有する複合膜の開発に貢献」
 

2023年3月,呉松竹 名古屋工業大学教授らと共に(一番右が和田先生)
 

 第114回例会(東京新宿)開催報告 

 6月19日に工学院大学新宿キャンパスにおいて第114回例会が開催されました。5年前に引き続き、プラズマを利用したアノード酸化による金属表面の機能化をテーマとしました。4名の講師から、プラズマ電解酸化皮膜の生成機構から種々の機能を活かした工業製品や医療用材料まで幅広い領域への適用事例をお聞きすることが出来ました。活発な議論もなされ、改めて注目度の高い技術領域であることを実感しました。

(田口喜弘幹事)
 

 

第114回ARS例会
プラズマ電解酸化による金属表面の高機能化
 
【日時】2024年6月19日(水)13:00〜16:40
【会場】工学院大学新宿キャンパス 28階 第1会議室(学生・ARS会員のみオンライン参加可能)(〒163-8677 東京都新宿区西新宿1丁目24-2)
 
【依頼講演】
チタンのプラズマ電解酸化による複合酸化物膜の作製とその深さ方向結晶構造解析 (近畿大学)岩崎 光伸
・アルミ、アルミ合金向け新規表面処理:エレクトロセラミックコーティングECC (ヘンケルジャパン株式会社)池上 誠
・硝酸塩電解液陽極酸化によるチタン材料への硬質光触媒TiO2皮膜の形成 (北見工業大学)大津 直史
・プラズマ電解酸化による医療用金属材料のマルチ生体機能化 ―抗菌性と硬組織適合性の同時獲得― (物質・材料研究機構)堤 祐介
 
参加者:オンサイト19名、会員限定オンライン33名、合計52名

 

 第114回ARS例会開催のお知らせ 

 プラズマ電解酸化(Plasma Electrolytic Oxidation, PEO)は、マイクロアーク酸化(MAO)と呼ばれることもありますが、比較的高いエネルギーの電場をAlやTiなどの陽極に与えて発光を伴う酸化反応を進行させ、結晶性の酸化物をスポット状に形成する手法です。酸化皮膜が形成された箇所は電解酸化に対して不活性となるため、未反応の金属素地が露出した箇所で電解酸化が進行し、最終的に全面が酸化膜で被覆されます。プラズマ電解酸化によって得られる皮膜は、均一性が一般的なアノード酸化に対して劣るものの、硬度・耐摩耗性・耐熱性などの優れた特徴を有しています。そこで本例会では、プラズマ電解酸化の先端技術について4名の講師から話題をご紹介いただきます。多数の方のご参加をお待ちしております。
 

第114回ARS例会
プラズマ電解酸化による金属表面の高機能化
 
【日時】2024年6月19日(水)13:00〜16:40
【会場】工学院大学新宿キャンパス 28階 第1会議室(学生・ARS会員のみオンライン参加可能)(〒163-8677 東京都新宿区西新宿1丁目24-2)
【主催】(一社)表面技術協会・アノード酸化皮膜の機能化部会(ARS部会)
【協賛(予定)】(公社)日本金属学会、(一社)軽金属学会、(公社)日本表面真空学会
【申込】1)氏名、 2)所属、 3)連絡先(e-mail、電話番号)、 4)会員種別(ARS会員、学生、表協/協賛学会会員、一般)を明記の上、件名を「第114回ARS例会参加希望」として事務局にe-mailでお申し込みください。  申込先 ARS部会事務局:arsアットマークsfj.or.jp(カタカナのアットマークを@に変換してください)
 ※)ARS会員または学生は、オンサイト参加かオンライン参加のいずれかを書き添えてください。
【参加費】ARS会員・学生:無料、表面技術協会/協賛学会会員: 3,000円、一般:5,000円(振込先などは申込受付後に別途連絡致します)
 ※)なお、ARSに法人会員はございません。個人会員のみとなります。
【定員】60名 (ARS会員と学生はオンライン参加可) ※)年会費3,000円のARS部会に入会すれば、参加費が無料となりオンライン参加も可能となります。入会をご希望の方は、参加申込の際の件名を「第114回ARS例会参加・入会希望」としてください。
【申込締切】5月31日(金)(申込多数の場合は早期に締め切ることがあります)
 
プログラム
13:00 開会挨拶 (東京工科大学)西尾和之
13:05-13:50 チタンのプラズマ電解酸化による複合酸化物膜の作製とその深さ方向結晶構造解析 (近畿大学)岩崎 光伸
13:55-14:35 アルミ、アルミ合金向け新規表面処理:エレクトロセラミックコーティングECC (ヘンケルジャパン株式会社)池上 誠
14:35-14:55 休憩
14:55-15:40 硝酸塩電解液陽極酸化によるチタン材料への硬質光触媒TiO2皮膜の形成 (北見工業大学)大津 直史
15:45-16:30 プラズマ電解酸化による医療用金属材料のマルチ生体機能化 ―抗菌性と硬組織適合性の同時獲得― (仮) (物質・材料研究機構)堤 祐介
16:30-16:35 閉会挨拶 (日本軽金属)田口 喜弘
 

 

 第113回例会(東京ビッグサイト)開催報告 

 ARS第113回例会を、SURTECH2024 部会講演会として1月31日(水)に東京ビッグサイトで開催しました。アルミニウム陽極酸化製品の製造、利用の際のトラブルの原因となるクラックに着目し、その生成機構、対応方法に関して、実際の製品設計に携わっている企業の講師3名にご講演頂きました。クラックの発生機構などの質疑応答も活発に行われましたが、時間の制約があり、まとまりを欠いてしまいました。引き続き、部会の中で議論すべきテーマと感じました。

(田口喜弘幹事)
 
 

第113回ARS例会
SURTECH2024 表面技術要素展
 
【日時】2024年1月31日(水)13:30〜15:30
【会場】東京ビッグサイト(東京国際展示場) 東3ホール 主催者事務室( 〒135-0063 東京都江東区有明3-11-1)
 
テーマ:耐クラック性アルマイト
【依頼講演】
加熱クラック生成挙動に及ぼすアルマイトのナノ構造の影響  (株)UACJ 中島大希、布村順司、北海道大学 菊地竜也
○耐熱クラック性に優れるアルミニウム硬質陽極酸化  奥野製薬工業(株) 本郷亜弓
○フラットパネルディスプレイ真空装置用マイクロアーク酸化処理 (株)アルバック 石榑 文昭 
 
参加者:オンサイト30名、会員限定オンライン10名、合計40名

 

 第38回ARS姫路コンファレンス開催報告 

 11月6日(月)~11月7日(火)に,じばさんびる((公財)姫路・西はりま地場産業センター)において第38回ARS姫路コンファレンスが開催されました。今回は,4年ぶりにオンサイトのみとし,長年にわたってARS部会を支えてこられた4名の名誉幹事の先生方による特別講演と最新の話題をご提供いただいた4件の依頼講演が行われました。ナイトコミュニティーも再開したことで夜遅くまで深い議論が行われ,アルマイト史100年にふさわしいコンファレンスになりました。また,若手と学生によるポスター発表では,基金をご提供くださいました黒田章裕様にご臨席いただき,優秀ポスター賞に対して直に黒田孝一記念賞を贈呈いただきました。

(田口喜弘幹事)

 


 

優秀発表賞・黒田孝一記念賞
寺島彩紗さん(北海道大学)「塩基性リン酸三ナトリウム水溶液を用いたアルミニウムのアノード酸化」
劉珈成君(名古屋工業大学「ハイブリッドアノード酸化法を利用したAl合金上に高耐食性硬質
Al-Mo-Ni-O複合酸化膜の創製」
橋口達希君(兵庫県立大学)「シリコンの金属援用エッチングにおける全面腐食と電極電位の関係」

 
 
第38回ARS姫路コンファレンス


【会期】2023年11月6日(月)13:00〜11月7日(火)12:00
【会場】じばさんびる((公財)姫路・西はりま地場産業センター) 〒670-0962姫路市南駅前町123番
 
【依頼講演】
・特別講演 アノード酸化 ―その不思議を追いかけて― (工学院大学)小野 幸子
特別講演 アノード酸化再訪―出会いに感謝 (慶応義塾大学)清水 健一
特別講演 大学教員から高専校長そして社外取締役へ (北海道大学)高橋 英明
・黒田孝一先生との数々の思い出 (目黒十中)水木 一成
特別講演 アルミニウム材料の電解着色技術の進歩と今後 (元日本軽金属(株))海老原 健
・二次電解着色を応用した土木製品向け表面処理 (日本軽金属(株))武田 千広
・塩基性電解質を用いたアルミニウムのアノード酸化 (北海道大学)岩井 愛、菊地 竜也
・酸化グラフェンを触媒として用いたシリコンの化学エッチング (京都大学)宇都宮 徹
・多機能電界放射型透過電子顕微鏡による薄膜・表面のナノ構造解析 (兵庫県立大学)福室 直樹
 
【ポスター発表】
P-1 塩基性リン酸三ナトリウム水溶液を用いたアルミニウムのアノード酸化 (北大院工)寺島彩紗、菊地竜也
P-2 チタン薄膜形成金属材料のアノード酸化挙動 (北大院工、UACJ)芦澤来虹、岩井 愛、菊地竜也中島大希、京 良彦、箕田 正
P-3 二段階陽極酸化による高規則性ナノホールアレー形成と電気化学キャパシタへの応用 (都立大院都市環境)長田悠雅、棟方裕一、柳下 崇
P-4 窪み配列を形成した貴金属の陽極酸化によるナノ構造体の形成 (都立大院都市環境)豊嶋彩香、柳下 崇
P-5 硫酸塩粉末分散電解液を用いたチタンのプラズマ電解酸化 (工学院大院工、工学院大先進工)恒川 陸、萩原健太、阿相英孝
P-6 バリヤー型アルミナ皮膜の生成挙動および構造に及ぼすグリセリン誘導体の添加の影響 (工学院大先進工、阪本薬品工業)力石陽暉、萩原健太、阿相英孝和田純一、保田亮二
P-7 ポーラスアルミナ皮膜/素地界面の構造に及ぼす電圧降下後の電流値の影響 (工学院大院工、工学院大先進工)稲川和希、萩原健太、阿相英孝
P-8 Tuning the Structures and Conductivity of Nanoporous TiO2-TiO Films through Anodizing Electrolytes as LIB Anodes with Ultra-high Capacity and Excellent Cycling Performance (名古屋工業大学)陳 雪雯、呉 松竹、松原孝至、櫻井陽子、日原岳彦
P-9 Fabrication of Al-Mo-Ni-O Composite Oxide Films with High Corrosion Resistance on Aluminum Alloys through Hybrid Anodization (名古屋工業大学)劉 珈成、呉 松竹、宮城和弥、櫻井陽子
P-10 プラズマアノード酸化皮膜の発色及び皮膜性能 (株式会社 中金)目崎博久、大島裕一郎、德安善太郎、寺西一明
P-11 グラフェンナノリボンを触媒とするシリコンの気相エッチング (京大院工、京大エネ理工研)多田敦哉、小島崇寛、李 澤驍、邑瀬邦明、坂口浩司、深見一弘
P-12 シリコンの金属援用エッチングにおける全面腐食と電極電位の関係 (兵庫県立大)橋口達希、東 恭平、西中 凜、仲山拓真、松本 歩、八重真治
P-13 白金薄膜パターンを用いたシリコンの金属援用エッチング —p-Siにおけるメソポーラス層の形成挙動— (兵庫県立大)西中 凜、東 恭平、橋口逹希、仲山拓真松本 歩、八重真治
P-14 薄膜パターンを用いたシリコンの金属援用エッチング —白金と銀のエッチング挙動の違い— (兵庫県立大)仲山拓真、西中 凜、東 恭平、橋口達希、松本 歩、八重真治
P-15 フラットパネルディスプレイ真空装置用マイクロアーク酸化処理の開発 ((株)アルバック)石榑文昭、稲吉さかえ、山本良明 (アルバックテクノ(株))佐藤洋志
P-16 Fabrication and Characterization of Ni-B(-Graphene)/Al2O3 Composite Filmswith High Corrosion and Wear Resistance on Aluminum Alloys (名古屋工業大学)呉 松竹、村井浩人、劉 珈成、櫻井陽子、藤村美吹、栗田典明
P-17 アノード酸化にもとづいたポーラス酸化ガリウムメンブレンの作製 (愛知工科大)近藤敏彰
P-18 Al-Tb合金の陽極酸化中の緑色エレクトロルミネッセンス (目黒十中)水木一成
 
参加者:59名


【ARS全般に関する問い合わせ先】
ARS事務局 e-mail:arsアットマークsfj.or.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)
【ホームページに関する問い合わせ先】
菊地竜也 e-mail:kikuアットマークeng.hokudai.ac.jp(アットマークを半角英数字@に変換して下さい)